绒面结构（Surface structure）

　　原理：采用三氯氧磷（POCl3）液态源扩散方法，在硅片表面形成N型层；

　　

　　Principle：POCl3  liquid diffusion, forming N type Si on surface;

　　

　　目的：形成PN结（太阳电池核心单元）；

　　

　　Purpose： Forming PN junction;

　　

　　化学反应式（chemical equation） ：5POCl3→3PCl5+P2O5（High T）2P2O5+5Si→5SiO2+4P↓

　　原理：采用激光，在硅片表面形成局域重掺杂N型层；

　　

　　Principle：Use laser to form heavy N type Si （local） on surface;

　　

　　目的：形成局域重掺杂N型层；

　　

　　Purpose： Forming heavy N type Si （local） on surface;

　　原理：实现硅片的单面腐蚀；

　　

　　Principle： Single side etch of silicon wafer;

　　

　　目的：PN结边缘隔离和背面抛光；

　　

　　Purpose： Isolation of PN junction and polishing.

　　

　　化学反应式（chemical equation） ：Si+4HNO3 → SiO2+4NO2↑+2H2O    SiO2+4HF → SiF4↑+2H2O    SiF4+2HF → H2SiF6

　　原理：在表面生长SiO2钝化膜；

　　

　　Principle：Grow  SiO2 film on surface;

　　

　　目的：提升开路电压,提升效率。

　　

　　Purpose： Increase Voc, improve efficiency.

　　

　　化学反应式（chemical equation） ：

　　

　　Si+O2 → SiO2

　　原理：PECVD沉积AlOx+SiNx薄膜；

　　

　　Principle： PECVD deposition of AlOx+SiNx thin film;

　　

　　目的：制备背面钝化介质层；

　　

　　Purpose： Rear side AlOx/SiNx dielectric layer. 

　　

　　工艺流程（process  flow）：

　　PECVD/ARC原理：PECVD沉积SiNx减反射膜；

　　

　　Principle： PECVD deposition of Anti-reflective coating;

　　

　　目的：表面钝化和降低反射率；

　　

　　Purpose： Surface passivation and reduce reflection.

　　原理：激光消融背面介质层；

　　

　　Principle： Laser ablation of dielectric layer；

　　

　　目的：形成局域背场接触，收集电流；

　　

　　Purpose：Forming local BSF（back surface filed) to collect current.

　　丝网印刷&烧结（Screen printing& Co-firing）：

　　

　　PERC电池需使用专用银铝浆料，使电池性能达到最优。

　　

　　PERC cell use special Ag&Al paste，for optimum of cell performance.

　　原理：电注入或光注入载流子，改变H的带电状态，提高对缺陷的钝化效果

　　

　　Principle：

　　

　　目的：提升效率，降低衰减

　　

　　Purpose：Decrease LID.

　　刻蚀/碱抛：

　　原理：

　　酸槽刻蚀：利用HNO3和HF的混合液体对扩散后硅片背面及边缘进行刻蚀抛光

　　碱槽刻蚀：扩散后硅片用HF溶液去除硅片背面氧化层，然后浸泡在无机碱（KOH/NaOH）的混合液体中，对背面及边缘进行刻蚀抛光

　　目的：PN结边缘隔离和背面抛光

　　化学反应式（chemical equation） ：

　　刻蚀：Si+4HNO3 → SiO2+4NO2↑+2H2O    SiO2+4HF → SiF4↑+2H2O    SiF4+2HF → H2SiF6

　　去PSG；SiO2+4HF → SiF4↑+2H2O 

碱抛;2NaOH+Si+H2O=Na2SiO3+2H2，Na2SiO3+3H2O=H4SiO4+2NaOH，H4SiO4=H2SiO3(偏硅酸)+H2O，H2SiO3+ 2NaOH === Na2SiO3 + 2H2O，H2SiO3+ NaOH=NaHSiO3+H2O